自动清洁cmos的方法讨论！

sf-1224 · 发表于 2019-3-25 19:05:29

本帖最后由 sf-1224 于 2019-3-25 19:13 编辑

大家好，最近碰到一个自动清洁cmos的难题，请熟悉此工艺的工程师帮忙支支招，谢谢！详细下面表述：
背景：一个类似照相机的设备，在无尘室进行装配，其中有个清洁cmos的工艺。
清洁要求：a.无明显划痕、脏污或者点尘；b.不损伤器件
现有工艺：清洁→检测。人工用棉签/细纤维无尘布蘸无水乙醇（≥99.7%）清洁，再用10倍显微镜观察效果。效果不错！
问题:如何实现自动化？有没有更好的方式清洁？如何检测？
目前方案：利用清洁机构+细纤维无尘布（H009 6"*6"）+无水乙醇/纯水的方式清洁；CCD检测。（不知道靠不靠谱，能不能达到10倍显微镜的放大效果？）
方案说明：产品上方放置一个移动平台，串行完成清洁、抽尘和检测工作。注：此方案目前在考虑阶段，还有很多不足，请大家轻拍！

非标男 · 发表于 2019-3-26 09:33:13

没接触过，顶一下！

执★着 · 发表于 2019-3-26 11:15:00

个人愚见哈：
1.那个产品不是透明或半透明的吧，CCD检测估计前面要装个放大镜才行（这个是个风险，可以简单的只弄这部分让软件的测试一下效果）。如果检测的背面能加反光灯，就能检测比头发丝还小的小点。主要看尘埃和产品那个面的颜色反差大不大，如果很接近的话，那就比较不好检测到。
2.无水乙醇擦拭后挥发速度是否大于你产品移动速度，否则要烘/吹干，在进入检测。
3.能不能产品动，无尘布袋整个装置不动，分为一次和二次清洁，主要考虑产品在输送线上的夹紧和定位了（看不清你整个产品的结构咋样的，个人愚见）。

远祥 · 发表于 2019-3-26 19:15:24

产品比较小，定位输送要设计的稳妥一些，精度稳定性要着重考虑！

sf-1224 · 发表于 2019-3-26 20:06:19

|执★着发表于 03-26 11:15个人愚见哈：<br>
1.那个产品不是透明或半透明的吧，CCD检测估计前面要装个放大镜才行（这个是个风险，可以简单的只弄这部分让软件的测试一下效果）。如果检测的背面能加反光灯，就能检测比头发丝还小的小点。主要看尘埃和产品那个面的颜色反差大不大，如果很接近的话，那就比较不好检测到。<br>
2.无水乙醇擦拭后挥发速度是否大于你产品移动速度，否则要烘/吹干，在进入检测。<br>
3.能不能产品动，无尘布袋整个装置不动，分为一次和二次清洁，主要考虑产品在输送线上的夹紧和定位了（看不清你整个产品的结构咋样的，个人愚见）。<br>

谢谢你建议.1.产品为不透明，这个加放大镜的方法还是要测试看效果的！2.速干基本得2S，这个提醒的好！3.产品动，倒是个不错的选择！可以考虑，谢谢！

sf-1224 · 发表于 2019-3-26 20:09:42

|远祥发表于 03-26 19:15产品比较小，定位输送要设计的稳妥一些，精度稳定性要着重考虑！

这个在样机上试过了，谢谢提醒！

舒恩Schun · 发表于 2021-4-26 00:06:11

请问下这个清洁装置效果怎么样？尺寸有多大？在非无尘室环境可行吗？谢谢！

舒恩Schun · 发表于 2021-5-7 09:23:09

请问下这个清洁装置效果怎么样？尺寸有多大？在非无尘室环境可行吗？谢谢！

sf-1224 · 发表于 2021-5-11 17:34:05

本帖最后由 sf-1224 于 2021-5-11 17:37 编辑

舒恩Schun 发表于 2021-5-7 09:23
请问下这个清洁装置效果怎么样？尺寸有多大？在非无尘室环境可行吗？谢谢！

1.目前这个方案还没有推进，主要问题是清洁合格标准没有明确。目前用3D相机是可以检测灰尘的（0.02mm大小）。
2.非无尘室一般不适合装sensor吧！会有很多灰尘掉落，我觉得擦不干净的啊！

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