中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司PECVD事业部，由美国硅谷多年从事半导体沉积设备制造的高技术人才团队归国组建，团队致力于技术研发和生产经营，以客户需求为导向，为客户提供最为完善、优质的服务。
CC1等离子体化学气相沉积系统获美国 NOVELLUS(诺发)Concept One（C1）授权，全部引进其生产技术及工艺，具有成熟的二氧化硅、氮化硅、氮氧硅等镀膜工艺，可广泛应用于4寸、5寸、6寸半导体晶圆代工生产线及半导体集成电路与分立器件生产线。
更新设计的自动化控制系统，采用了 Device Net 现场总线通讯技术；控制程序基于 Windows 2000平台设计，程序界面更友好，工艺操作更便捷，提高了控制系统效率。此外设备还提供基于SEMI通讯协议的工业以太网接口，使得远程监控和生产线设备调度管理更方便。
发表于 2008-3-19 08:48:10
中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司PECVD事业部，由美国硅谷多年从事半导体沉积设备制造的高技术人才团队归国组建，团队致力于技术研发和生产经营，以客户需求为导向，为客户提供最为完善、优质的服务。
