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发表于 2007-12-4 13:03:50
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我这里有关于镀黑铬的一点介绍,希望对楼主有用。' ]# U. i5 T/ J2 O, j& m
6 x% L; Z) D! H( L% ~2 Y. P6 V黑铬镀层具有许多优点,其化学稳定性好,可以经久保持其表面光泽的外观,装饰性好,耐磨,而且抗污染能力强,因而广泛用作防护装饰性镀层。但是与其它常用镀层相比,黑铬镀层是最难获得的,其工艺上存在许多难点,主要有:. m: G8 _5 Q/ _% ]9 _% j3 c) P% I
① 镀液均镀和深镀能力差。
# ]+ p8 O( X! i0 F. i ② 阴极电流效率极低,一般在13%~16%,绝大部分电能都消耗在析出氢气等副反应上。
3 K9 H" K- w9 t6 R5 g; e. A# X/ G4 H ③ 获得合格镀层使用的电流密度大,槽电压高,能耗大,需要价格昂贵的电源。1 H; d1 I9 O( F
④ 电解液具有极强的腐蚀性。 o" I9 x* o6 Q& s# s; x4 ?+ U
原理% q+ r9 [6 ^4 R4 i" U
镀铬液的主要成分是铬酐,它的分子式是CrO3,铬酐中的铬是六价。铬酐易溶于水,溶液中的六价铬可以多种形式存在,如四铬酸(H2Cr4O13)、三铬酸(H2Cr3O10)、重铬酸 (H2Cr2O7)、铬酸(H2CrO4)和铬酸氢根(HCrO-4)等。
! [# p/ P" o/ m 一般情况下,溶液中的Cr6+主要以铬酸和重铬酸两种形式存在,
8 ^9 D/ }" y5 M; X- F8 F2CrO3+H2OH2Cr2O7
1 n5 E4 j" o7 ^- aCrO3+H2OH2CrO4
) l2 J2 m$ v' u0 U7 `/ f 重铬酸和铬酸处于动平衡状态,
; o: y7 z8 a% m& E4 [ x$ b2H2CrO4=H2Cr2O7+H2O
! \# ?5 Y0 ^" `( @: |/ R CrO3的浓度降低或pH值降低时,平衡向生成Cr2O2-7的方向移动;. d% |" j* ]* A K- @4 ^
CrO3的浓度增加或pH值上升时,平衡向生成CrO2-4的方向移动。* N# w9 E$ @) r4 j/ m7 L6 k
镀黑铬时电极的反应如下:
( d7 G- z$ X4 Q- m9 k. t+ F/ ]阳极反应
8 s7 v- Z9 o7 O3 k3 O1 H0 n4OH-4e2H2O+O2↑ ①$ _: M0 v, E! \ k
阴极反应
( D, d _6 X1 a; {+ w4 `) d2H++2eH2↑ ② _0 I# N4 k0 N7 m- \, a; l( c
Cr2O2-7+8H++6eCr2O3+4H2O ③
: R3 A r% ~3 S3 u) @0 \ 由于氢气的析出,阴极区内的pH值上升,则发生如下转化,. q; ]2 v2 r6 {- u, h' D6 [% @
Cr2O2-7+H2O = 2CrO2-4+2H+ ④; R( r5 d/ j" V
于是
5 f7 l6 t! o- W' [CrO2-4+8H++6eCr+4H2O ⑤
( y# W$ j' N G* I' T! }1 d. U 因此,黑铬镀层主要是由铬和铬的氧化物组成。镀黑铬过程中,阴极上发生②、③式反应时,由于氢的析出,阴极区pH值上升,三价铬会在阴极上生成碱式铬酸铬薄膜,它是带正电性的分散胶体,会将阴极表面慢慢地包封住,这层膜很紧密,只能让氢离子透过发生②式反应,也即镀黑铬反应将会慢慢终止。当在镀液中加入阴离子添加剂HCr-I后,它能与镀液中的三价铬络合形成复杂的阳离子,这种复杂的阳离子又能破坏阴极表面所形成的碱式铬酸铬膜,使CrO2-4离子能在阴极上放电而析出金属铬,发生⑤式反应,因而添加剂具有使铬镀层表面活化的作用。# P& q, r+ R/ L& d2 z
镀黑铬工艺组成及其影响因素的分析3 ^: J% l; F, [8 ], f2 d" ]# u3 d0 \4 M
3.1 镀液组成及工艺条件$ C q' W, j8 z# F+ P
通过大量的实验和小槽的多次试镀,我们决定在原槽液中大大增加硼酸含量,并加入阴离子添加剂HCr-I,镀液性能得到明显改善,阴极电流效率有所提高。
0 `5 ?' \0 G9 w' J J) B0 x K8 y 镀黑铬电解液新配方与工艺条件为:+ a% j3 |/ D( h3 v% r+ M1 S; B
铬酐 280~350 g/L
b( D3 G; `9 m& }8 K 硼酸 10~25 g/L
' G% M) e- Y- y3 L r- n 硝酸钠 7~11 g/L
- g. v u9 u4 p5 I! y" b4 }# | 添加剂 HCr-I适量
7 `$ [& H$ s* x+ m 镀液温度 15~35 ℃
w- c% R+ ~# A3.2 镀液成分与工艺条件的影响7 A5 A" _( m. @5 C& ]5 c3 w
3.2.1 铬酐:铬酐是镀液中的主要成分。当铬酐含量偏低时,镀液的深镀能力较差;含量偏高时,虽然深镀能力改善了,但镀层硬度降低,抗磨性能下降,一般控制在280~350 g/L之间。6 l5 r4 h5 E6 K9 B' e2 i6 S
3.2.2 硼酸:硼酸的加入,能使镀层细致,提高镀液的覆盖能力。含量太低,镀层粗糙疏松;含量太高,会使镀层出现脆性、脱壳现象。8 L8 f% L% n$ @5 y% k0 Z: o
3.2.3 硝酸钠:镀液中的硝酸钠是发黑剂,它的含量偏低时,镀层不黑,电解液的电导率低,槽电压高;含量偏高时,镀液的分散能力和覆盖能力较差。通常控制在7~11 g/L之间。- X" I4 I3 h. F. u& y0 ^
3.2.4 添加剂:镀液中使用阴离子添加剂HCr-I可以提高镀液的分散能力和镀层的黑度,并具有使黑铬镀层表面活化的作用。2 B" H$ M6 u& ~ y' L! q4 q2 h
3.2.5 镀液温度:镀黑铬时,由于阴极电流效率很低,工作时的电流密度较高,槽液的温度极易上升。当温度超过35 ℃时,镀层就不黑了,因此在生产中要严格控制槽液的温度。- S0 g, `) y) b5 L7 L/ U. k
3.3 杂质离子的影响及除去方法/ A( i/ ~# J1 r5 a: O# y; f
3.3.1 氯离子:镀液中氯离子含量过高时,会使镀层发花,覆盖能力降低,甚至会使镀层粗糙和发灰。因此生产中必须防止将氯离子带入镀黑铬槽液中。自来水中氯离子含量较高,因此不可用自来水配制镀黑铬槽液,应用蒸馏水或去离子水配制,而且镀黑铬前的清洗也必须用纯水。
8 X9 }% O* @" ~/ V 氯离子可用适量的硝酸银来除去。
" I# ?; Q, n3 }, `/ R8 x5 @( J3.3.2 硫酸根: 硫酸根是特别有害的杂质。当镀液中含有硫酸根时,镀层呈浅黄色。7 L( z# f e, C4 d1 j
硫酸根可用适量的碳酸钡来除去。
* d- @$ ^- a) V3.3.3 铜离子:当镀液中含有铜离子达1g/L以上时,镀层会出现褐色条纹,因此阳极的铜挂钩不可侵入镀液内。若有落入镀槽内的铜零件,应及时取出。 |
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