哈工大为国内顶尖学府,此前在14纳米光刻机上就研发成功了重要的光刻机技术,为国产14纳米光刻机的量产提供了有力支持,近日哈工大再传来炸裂性的消息,研发成功EUV光刻机光源,这将是美国和ASML以LCC EUV联盟垄断EUV光刻机之外的首次。
据称哈工大研发的“电能转化等离子体线路”技术,可以实现DPP-EUV光源,为国产的EUV光刻机打开了一扇门,这也是EUV光刻机的重要核心技术之一。
国产芯片制造工艺一直无法突破7纳米,就在于美国阻止ASML对中国出售EUV光刻机,早在2018年中芯国际就向ASML支付了1.2亿美元订购EUV光刻机,然而至今ASML都未向中芯国际交付EUV光刻机。
去年下半年以来,美国又进一步加强了光刻机出口限制,要求ASML不要对中国出售14纳米及以下的EUV光刻机,早前ASML表示它可以对中国出售1980Di光刻机,然而这只是一款38纳米光刻机,远远无法满足中国的需求。
为此中国开始极力推动国产光刻机产业链的发展,而哈工大就多次研发成功重要的光刻机技术,为国产光刻机的发展提供了有力支持,这次再研发成功EUV光刻机光源,为国产EUV光刻机的量产推进了一大步。
ASML是一家荷兰企业,为何美国能对ASML拥有如此巨大的影响力,原因就在于多年来美国为ASML提供了诸多的技术支持,将ASML从一家苟延残喘的光刻机厂商变成如今的光刻机巨头,占有光刻机市场近六成的市场份额。
2005年之前,全球的光刻机市场主要为日本的佳能、尼康占据,它们占有八成的市场份额,而ASML当时甚至只能托庇在飞利浦旗下,而飞利浦只是给ASML一家毫不起眼的办公室,毕竟当时的ASML实在看不到希望。
2005年台积电的林本坚研发出浸润式光刻机技术,而日本的佳能、尼康生产干式光刻机,它们看不上林本坚的浸入式光刻机技术,那时候苟延残喘的ASML找上了台积电,孤注一掷研发浸润式光刻机技术,由此迅速在光刻机市场打开局面。
此后美国希望打压日本的光刻机产业,强制日本的光刻机企业贡献先进光刻机技术,后来美国更联合ASML成立LCC EUV联盟,却排斥了佳能和尼康,由此ASML更成为全球唯一可以生产EUV光刻机的厂商,由此建立了ASML垄断光刻机市场的地位,如此也就不奇怪为何ASML屡屡听从美国的要求了。
如今中国在美国的压力下,不断加强国产光刻机产业链的发展,乃至哈工大先后拿出浸润式光刻机技术、EUV光刻机技术,中国的光刻机厂商可望成为ASML之后另一家量产先进光刻机的厂商,打破ASML垄断光刻机市场多年的局面,由此ASML近期慌乱之下表态指中国自研光刻机将打乱全球芯片产业链,印证了中国在光刻机技术上的重大突破。 |