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当地时间3月8日，荷兰出手了，宣布计划对半导体技术出口实施新的管制。
这一消息源于荷兰外贸与发展合作大臣Liesje Schreinemacher致荷兰议员的一封信，其中写道：
“鉴于技术发展和地缘政治背景，政府得出结论，为了国家安全，有必要扩大对特定半导体制造设备的现有出口限制。”
信中还提到，荷兰方面将建立国家出口管制清单，管制措施也将在今年夏天之前开始实施。
可以注意到，致信中并没有直接点名ASML、光刻机和中国，但联想到1月份美日荷三方于白宫会面商讨出口限制一事，以及达成的那份没有公布细节的协议，本次荷兰出手的缘故显而易见。
而就在之后接受媒体采访时，Schreinemacher也表示，新禁令下还是有许多更低端的设备可以销往中国，无需取得许可，包括制造汽车、冰箱、电话和风力发电机所需芯片的设备。
荷兰宣告出手限制出口的第二天，光刻机龙头ASML也做出了自己的回应。
“最先进”DUV设备受限事实上，自2019年以来，ASML的EUV设备就被禁止出口中国大陆。这一次的焦点，在于DUV设备，其主要用于生产28nm及更成熟制程的芯片，通过多次曝光，也是可以实现7nm制程的。
在声明中，ASML先是表明荷兰政府的措施不会对公司2023年的财务产生重大影响。随后称，最新出口管制并不适用于所有的浸没式光刻工具，而是仅适用于“最先进”工具。
至于“最先进”的具体定义，荷兰政府方面尚没有给出确切的消息。不过ASML给出了自己的解释——关键的浸没式系统，即TWINSCAN NXT:2000i和后续推出的浸没式系统。
ASML官网显示，其浸没式DUV设备目前主要有3款产品，分别是TWINSCAN NXT:2050i、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:1980Di。其中依照ASML对“最先进”的理解，NXT:2050i和NXT:2000i将受到此次出口限制影响，NXT:1980Di则不受影响。
据悉，NXT:1980Di 的分辨率可以达到≤38nm，每小时可以生产275片晶圆，当前主要被用于45nm以下成熟制程的生产。
依据ASML在声明中所言，主要关注成熟制程的客户，使用不太先进的浸没式光刻工具也能够得到很好的服务。
技术限制步步紧逼
当前的光刻机市场，ASML与尼康、佳能一起拿下超过90%的市场份额。其中，ASML主要着眼于高端市场，也是全球唯一的EUV光刻机供应商，尼康和佳能则聚焦中低端市场。
自然而然的，这个被称作“半导体工业皇冠上明珠”的领域，也被美国视作技术封锁，尤其是芯片相关技术封锁的重要一环。
事实上，自2018年来，美国就已经开始向荷兰政府施压，要求其撤销ASML向中国出口EUV光刻机的许可。它也做到了，自2019年开始ASML EUV设备的销售就受到了限制。
而现在，轮到了DUV设备。
今年1月份，外媒报道称荷兰首相Mark Rutte会见美国总统拜登时，双方就ASML向中国销售DUV设备可能实施的出口限制问题进行了讨论，并于27日达成了一项协议。
直到现在，三方都没有就这份协议进行公开或讨论，但荷兰此次宣布的出口限制，也让外界对这份协议有了一番猜测。
值得注意的是，彼时在白宫与美国政府商讨事宜的还有日本，后者在半导体材料和设备全球市场中同样保持领先。有数据统计称，日本企业在全球半导体设备市场的份额为35%，在全球半导体原材料市场的份额为52%。
就在荷兰宣布计划对半导体技术出口实施新管制之后不久，也有消息称日本最快将于本周发布最新芯片设备出口政策。对比荷兰此次的做法，预计日本也将在很大程度上遵循美国的脚步。针对中国的半导体技术限制正一步步增强。
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发表于 2023-3-14 09:54:49
