本帖最后由 twq19810302 于 2023-2-25 10:41 编辑
据媒体报道,哈工大终于攻克困扰我国已久的光刻机光源难题,成功研制出“高速超精密激光干涉仪”,测量结果能直接回溯。可以说为上海微电子“光源国产化”问题,贴上最后一片拼图。
老美高喊“对华脱钩”,对我国关键芯片技术、设备实施禁运和限制。荷兰作为垄断光刻机(芯片产业核心制造机器)的大国,也被老美拉入阵营,想要彻底堵截我们自研芯片产业的发展。
没想到,老美这次是高估了自己、错判了盟友,小瞧了中国。
01. 美、荷刚刚联手,国产光刻机便获重大突破
目前全球只有荷兰ASML(阿斯麦)能生产高制程光刻机,完全是卖方市场来主导价格。而光刻机本身就是一种具备了精密仪器、数学、化学、高分子物理、图像识别的顶级工业产物,价格高昂。
华为云研发专家马超就曾表示:“如果中国能用 10 亿美元直接买到一台 EUV,我相信华为肯定会毫不犹豫地下单。” 尽管ASML总裁多次表示中国市场十分重要,集团总收入的34%都来自中国,ASML近1/3的员工都是靠中国吃饭。
可惜的是,老美屡屡从中作梗。
CNBC网消息,早在2018年的时候,荷兰ASML(阿斯麦)公司就接受了1.2亿美元全款,计划将EUV光刻机出售给我们。老美代表在荷方会议室整整咆哮了3个小时,要求荷当局与其保持步伐一致,最终ASML公司妥协,限制DUV、EUV等光刻机出口,堵住了我们的芯片自研之路。
就在国芯嗷嗷待哺、技术突破迫在眉睫之际,光刻机制造的关键环节终于迎来巨大突破。
近日,国内媒体报道,我国哈工大成功研制出了高速超精密激光干涉仪,用于350nm到28nm工艺的光刻机样机集成研制和性能测试。 光刻机重达几十吨,里面涉及数十万个精密零件、三个大系统。其中,两大系统国产技术早已攻破,只有光源技术系统是最难突破的“高地”,这意味着我国终于突破这一技术壁垒,完成了DUV光刻机的“最后一张拼图”。
02. 封不住!中国大市场无可替代
“微软之父”比尔盖茨曾严肃地建议,“不要对中国实施技术围堵,这非常愚蠢!会迫使他们升级技术,反噬我们的市场”。可惜无人在意。
三年里,美的围堵之势越演越烈,本想一举摁死我们的芯片产业,没想但却激发了中企熊熊斗志。2021年度增速最快芯片企业中,前20家中,有19家来自中国。我国技术势如破竹,接连告捷。
光刻机技术突破前,中芯国际等企业就已经获得28nm芯片自研技术的突破,还大力投建工厂,扩大产能,成功补足840亿颗进口芯片缺口。 老美对盟友的判断也接连失策。此前老美不断对日施压,要求管控对华芯片出口。然而日方却陷入两难,甚至公然叫板:中国在全球供应链中心的作用无法替代,我们离不开中国市场。一旦失去,损失将会超过2.6万亿人民币”。
03.外媒:对华围堵,想回去就难了
这对这次光刻机突破,外媒接连发文直言,“差距越来越小了。”
而失去中国市场后,美芯迎来寒冬,多个美企巨头库存积压,芯片卖都卖不出去。高通业务受重创,25家美芯巨头甚至直降90%抛售,也改变不了现状。至2023年2月,美芯片产业市值缩水数万亿。
荷兰的日子也不好过。光刻机巨头ASML的总裁频繁喊话老美,要求解除限制,重回中国市场,“物理技术就在那里,中国关键技术持续突破,再晚他们就造出来了”。
据悉,目前上海微电子正在与国内激光企业、哈工大等高校共同突破光源“国产化”落地的问题,预计国产DUV光刻机很快将实现交付。
诸多事实证明,国产技术走向世界、引领发展的时代,已经提前到来。
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