看用在哪里吧!芯片不是越小越好的。 1米左右,应该能达到,
中国在这方面还是很差的,
四重曝光 等效7-5纳米 光刻机难的不是某一个设备的精度 而是一整套系统的最低精度因为老美会一次次的封锁你,(我也不是很懂 大概意思如此)比如要生产芯片要原材料 原材料生产设备 零部件 零部件生产设备等等一系列设备产出物最后在放到光刻机上 出来的成功率多少的高等级芯片,比如现在老美封锁光刻机 等你光刻机成熟了就封锁你原材料等等一系列的,因为要保证最后产品的精度,肯定是前面一系列设备累计公差得到的最小公差个人理解
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