光刻机做成“光刻厂”，靠不靠谱？
距离华为Mate 60 pro突然开售已经过去半个月，线上预订的粉丝们最近都陆续收到了新机。但由于华为官方一直没有召开手机发布会，因此这款手机上依然有非常多的谜团等待解开。
就例如，这颗突然“空降”的麒麟9000s处理器，究竟算不算5G芯片？华为又是如何在重重封锁下，“手搓”这颗纯国产芯片呢？
在这里，我们就不对华为背后的技术和进行过多揣测，但可以肯定的是，国产光刻机技术在近期有不小的突破。
巧的是，就在最近，一项来自清华大学的光刻机技术在网络上火了起来，简单来说，就是把光刻机做得足够大，就能生产出EUV光刻机需要的光源。
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这样的脑洞，不仅路人们听上去玄乎，就连不少技术人员也表示了惊叹。
一时间，网上的解读和质疑声也是层出不穷。
什么是SSMB这项由清华大学提出的技术，专业术语名叫“稳态微聚束”（steady-state micro-bunching），简称SSMB，是一种新型的粒子加速器光源。
最早由清华大学杰出访问教授赵午教授与其博士生于2010年提出，并在2017年，与清华大学工程物理系教授唐传祥合作，共同发起理论实验。
在2022年的中国物理学会秋季学术会议上，研究组成员潘志龙提到了由SSMB技术造出来的光刻机，叫作“SSMB-EUV”光刻机，而这也正是最近讨论的话题的来源。
https://oss-im2maker.oss-cn-hangzhou.aliyuncs.com/uploadfile/2023/09/20230918095730808.png图源 |寇享学术
SSMB背后涉及的原理非常复杂，笔者并不能完全解释，所以这里就结合几位科普博主的讲解视频，简单进行一点概括。
首先，光刻机的原理，是利用光刻机发出的光源，通过设定好图形的光罩，对涂有光刻机的硅板进行曝光，从而“刻”出电子线路图，再进行一些后期加工，最终形成芯片的雏形。
如果光源的波长越短、功率越大，这样的“光刀”就更加锋利，“雕刻”出来的电子线路图也就更加精密，芯片的性能与算力也就越强。目前，波长仅为13.5nm的极紫外光（EUV），是高端芯片的唯一选择。
从电磁波谱上看，EUV已经非常接近X-射线，这么高的能量，单靠物理操作很难实现。
ASML采用的是LPP模式，通过一台功率大于20 kW的CO2气体激光器轰击液态锡，形成等离子体，从而产生极紫外光。
https://oss-im2maker.oss-cn-hangzhou.aliyuncs.com/uploadfile/2023/09/20230918095802244.jpg图 |LPP-EUV
在找到EUV光源解决方案后，加上多年以来的光刻技术，ASML做出业内最顶尖的EUV光刻机，最终垄断了整个市场。
值得一提的是，为ASML提供EUV技术的是美国公司Cymer，这是全球唯一能够提供商用EUV光源的公司，国内自然无法从外部解决光源问题。
不过，实现EUV光源的方案不止一种，清华大学团队想到了用加速器加速电子，从而产生高功率的辐射。
简单来说，电子只要加速运动，就会发射电磁波，理论上只要加速度够快，那么必然出现符合EUV波长的“光子”。
但光有一个“光子”还不够，想做光刻机需要稳定的“光束”。
研究人员发现，当电子束绕过加速器后，受到磁场的作用，会形成精细的微结构，这种就是“微聚束”。
https://oss-im2maker.oss-cn-hangzhou.aliyuncs.com/uploadfile/2023/09/20230918095825953.jpg图源 | 《自然》杂志
再让这些微聚束穿入激光阵列，通过激光与电子的相互作用，形成有一定间隔，相对聚集的排列，就这样，微聚束被“稳态”地保持了。
就这样，稳态微聚束呈现出极紫外光的高功率与短波长，算得上一种全新的EUV光源解决思路。
光刻机做成“光刻厂”，靠不靠谱？
解释完SSMB技术，光刻厂又是怎么一回事？
在网上，有人把“SSMB-EUV”光刻机称作光刻工厂，甚至给出了工厂所在的地河北雄安新区，并贴出了相关图片（注：网传图片为高能同步辐射光源项目，并非SSMB设施）。
据悉，除了3nm工艺外，4nm、7nm、14nm、28nm，但凡你听说过的芯片制程工艺，都能在这个光刻工厂里解决。
https://oss-im2maker.oss-cn-hangzhou.aliyuncs.com/uploadfile/2023/09/20230918095848646.png图源 | 微博
为了更好地理解，有人形象地将光刻工厂比喻成篮球架——如果说以前最中心的篮筐里（3nm）难度很大，那么就多加几个篮筐（其他工艺），只要投篮次数够多，总能投到最中心篮筐，而投不进的话，掉到其他篮筐里也能得分。
从原理上来说，光刻工厂和SSMB技术确实有很大的关联性，都是利用电子束加速产生电磁波，从而得到对应的波长。由于粒子加速器体积大（加速器周长100-150米），同时需要很多配套设施，因此占地规模大也非常正常。
当然，方案可行，实施起来并没有那么容易。
首先，从官方新闻稿看，这次在雄安新区落地的SSMB-EUV光源设施项目更接近科研用途，而不是实际生产。
从研发进程来看，SSMB-EUV技术在2021年在《Nature》杂志上正式刊登，通过原理验证实验，想在短时间内跨过下一步验证，走向商用，还要一定时间。
其实，不论是光刻机还是光刻工厂，光源只是光刻机中的关键设备之一，其他配套设备同样不可或缺。
作为一种全新的方案，其他国产替代设备是否适配SSMB-EUV技术，还是一个未知数。
最后，就是不少人提到的能源消耗和使用成本高的问题，虽然后续可以通过建造多条生产线将成本摊薄，但这就需要极强的规划能力和长期运营能力。总之，方案有了，思路有了，光刻工厂值得期待，但距离实际生产还有一段距离。
不懂，不过看这个宣传方式就不是好事，大家都知道一个道理叫闷声发大财。这种短视频天天讲的，肯定是有某些目的的。
如果技术原理没问题，合理的经济投入，优秀的管理团队，优秀的技术团队再加时间，应该是没问题的。但是这种宣传就容易有资本介入，也容易引起一些居心不良的人或者国家注意，到时候收买或者安插几个，可以做决策的人，随意做几个错误的决策，经济时间损失就不一定多少。
ヾ(❀╹◡╹)ﾉ~✧:;
期待～～～~~~···
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http://www.cmiw.cn/data/attachment/forum/202307/30/201008mc14y288ln18puu4.png 看了很多这方面的报道，说实话，没有一家能解释的清楚这个所谓光刻厂原理的。
也没有一家能说清中国7纳米芯片怎么来的。
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