中国国产光刻机获突破，能生产7nm芯片？专家：要认清现实！
技术方面的不断发展带来了更多可能，但更加影响大家的是另外方面的问题，中国由于实力上的进展，创造了更多的优势。但同时也有一个问题，那就是发展当中的一些限制，由于整体能量以及起步时间方面的原因，所以在一些技术呈现上中国的缺陷是比较大，按照这种模式发展对于中国本身的影响也会增大，在运用呈现上的表达，也有更多的东西，但中国在芯片世界上最大的一个短板则来源于光刻机。
由于芯片是半导体发展领域，所以想要完成更多这方面的运用，必须有一定的发展意图，在目前市面上流传的芯片制造来说，大多数都是以光刻机来作为支撑，但中国在这方面还没有完成技术突破。
目前来说拥有着广客机制造研制领域最强的一个国家是荷兰，他们的ASML公司也在整体的发展当中创造了更多的可能，但是想要为后续带来一定的支持，某些领域也是不可忽视，美国也想过从芯片事业方面对中国进行限制取得的成效还比较不错。
在这种情形之下，我们也在努力地应对和做改变，在美国对中国围追堵截的那一段时间当中，我们做了很多的调整。
其他国家的大洋一直存在，但是国产光刻机在发展过程当中也一直在调整，目前在我国的光刻机市场也迎来了一个最新的动向，我国的哈工大仪器学院的胡鹏程教授带领团队研制出了高超速精密激光干涉仪，这项技术还获得了首届金穗奖，并且在中国光电仪器品牌当中获得金奖。
虽然头衔比较多，但是大家都在好奇他究竟是做什么用的？
根据目前的技术看来，这一项激光干涉仪可以用于350纳米到28纳米工艺的光刻机集成研究和性能测试，这也就意味着中国能够在集成电路上实现弯道超车，通过这一技术的发展，想要为之后的7纳米，5纳米做更多铺垫就变得相对比较简单了。
并且依靠着这一技术也可以缩短与西方企业之间的差距，本身在光刻机研制上想要完全的超越就不太可能，但现在由于这一技术的诞生，让中国的追赶变得有了底气，也有了更多的可能。
技术领域的发展从来就没有容易二字，想要有更多优势上的进展，也必须持续性地推进，但其实关于这一技术，人们还是有比较多的疑问，毕竟说中国的技术能够完全地突破，七纳米芯片的制造还是引发了很多人的关注，但是专家也有过提醒，让我们在这方面认清现实。
首先技术上的呈现无可厚非，而中国也确实有这项技术的突破，但是数据却没有大家想象得这么可观，因为根据目前的数据看来，他仅仅只是350纳米到28纳米之间，想要完成更高的芯片技术制造更需要有所推进，况且，中国在这一技术上仅仅只是才拥有，所以说也需要有更多的支持。
实际上的发展虽然让我们有了一定的底气，但是绝对不可能因为这样的原因就沾沾自喜，毕竟在技术制造领域还有众多方面的展现，如果说单纯凭借这方面，就为此高兴的话，也很有可能会在后续发展当中付出更多的代价。
光刻机研制需要的是更多技术上的共同配备，中国在这方面仅仅只是才起步，因此在后续发展过程当中，也应当有更多的关注，虽然不是想泼中国的冷水，但毕竟在一些技术发展上，我们起步的时间是比较晚。
光刻机制造方面，虽然有优势上的展现，但是想要完全的代替以及跟上其他国家需要的是更多的调整和提升能量发展，从来都不可能一概而论，中国能够取得芯片事业的进步，也有着多方面的呈现，但也不可以因此而沾沾这些。
当然除开在光刻机的研制上，我们还有其他方面的共同进展，那就是关于光子芯片的验证，这种芯片不需要用光刻机来进行共同制造，也可以有相应的技术能量提升。
但是毕竟光子芯片是一条全新的路线，是否能够维持，以及在这条道路上的发展优势，如何可能需要更长的时间来进行考验。在中国进行光子芯片量产之后，也可能会有一定的判定，就请大家拭目以待吧
22的能量产不 28究竟能不能量产。。如果28能量产，我觉得已经很不错案例，至少基本的东西我们不用被卡脖子了。
军用不被卡就好了，28的芯片，我也能接受
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